TU Darmstadt / ULB / TUbiblio

Blättern nach Person

Ebene hoch
Exportieren als [feed] Atom [feed] RSS 1.0 [feed] RSS 2.0
Gruppiere nach: Keine Gruppierung | Typ des Eintrags | Publikationsjahr | Sprache
Anzahl der Einträge: 4.

Petzold, S. ; Piros, E. ; Sharath, S. U. ; Zintler, Alexander ; Hildebrandt, Erwin ; Molina-Luna, Leopoldo ; Wenger, C. ; Alff, Lambert (2019)
Gradual Reset and Set Characteristics in Yttrium Oxide based Resistive Random Access Memory.
In: Semiconductor Science and Technology
doi: 10.1088/1361-6641/ab220f
Artikel, Bibliographie

Sharath, S. U. ; Vogel, S. ; Molina-Luna, Leopoldo ; Hildebrandt, Erwin ; Kurian, J. ; Dürrschnabel, Michael ; Nierman, G. ; Niu, G. ; Calka, P. ; Lehmann, M. ; Kleebe, Hans-Joachim ; Wenger, C. ; Schroeder, T. ; Alff, Lambert (2017)
Control of switching modes and conductance quantization via oxygen engineering in HfOx based memristive devices.
In: Advanced Functional Materirials, 27
doi: 10.1002/adfm.201700432
Artikel, Bibliographie

Niu, G. ; Schubert, M. A. ; Sharath, S. U. ; Zaumseil, P. ; Vogel, S. ; Wenger, C. ; Hildebrandt, E. ; Bhupathi, S. ; Perez, E. ; Alff, L. ; Lehmann, M. ; Schroeder, T. ; Niermann, T. (2017)
Electron holography on HfO2/HfO2−x bilayer structures with multilevel resistive switching properties.
In: Nanotechnology, 28 (21)
doi: 10.1088/1361-6528/aa6cd9
Artikel, Bibliographie

Niu, G. ; Schubert, M. A. ; Sharath, S. U. ; Zaumseil, P. ; Vogel, S. ; Wenger, C. ; Hildebrandt, E. ; Bhupathi, S. ; Perez, E. ; Alff, L. ; Lehmann, M. ; Schroeder, T. ; Niermann, T. (2017)
Electron holography on HfO2/HfO2−xbilayer structures with multilevel resistive switching properties.
In: Nanotechnology, 28 (21)
doi: 10.1088/1361-6528/aa6cd9
Artikel, Bibliographie

Diese Liste wurde am Tue Nov 19 04:32:47 2024 CET generiert.