Blättern nach Person
Ebene hoch |
1999
Hegemann, Dirk ; Vohrer, U. ; Oehr, C. ; Riedel, Ralf (1999)
Deposition of SiOx films from O2/HMDSO plasmas.
th International Conference on Plasma Surface Engineering (PSE 98). Garmisch-Partenkirchen, GERMANY (14.09.1998-18.09.1998)
doi: 10.1016/S0257-8972(99)00092-4
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie
Hegemann, Dirk (1999)
Plasmagestützte Prozesse zur Abscheidung neuer Hartstoffschichten.
Technische Universität Darmstadt
Dissertation, Bibliographie
Hegemann, Dirk ; Riedel, R. ; Oehr, C. (1999)
PACVD derived thin films in the system Si-B-C-N.
In: Chemical vapor deposition, 5 (2)
Artikel, Bibliographie
Hegemann, Dirk ; Riedel, Ralf ; Oehr, C. (1999)
Influence of single-source precursors on PACVD-derived boron carbonitride thin films.
In: Thin Solid Films, 339 (1-2)
Artikel, Bibliographie
Hegemann, Dirk ; Riedel, R. ; Oehr, C. (1999)
Plasma deposition of hard and thermal resistant SiBCN coatings.
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie
1997
Hegemann, Dirk ; Riedel, R. ; Dreßler, W. ; Oehr, C. ; Schindler, B. ; Brunner, H. (1997)
Boron carbonitride thin films by PACVD of single source precursors.
In: Chemical Vapor Deposition, 3 (5)
Artikel, Bibliographie