Rispal, Lorraine ; Wessely, Frank ; Stefanov, Yordan ; Ruland, Tino ; Schwalke, Udo (2006)
CMOS-compatible Fabrication Process of Carbon-Nanotube-Field-Effect Transistors.
IEEE EDS Workshop on Advanced Electron Devices. Fraunhofer-Institut IMS, Duisburg, Deutschland (13.06.2006-14.06.2006)
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Konferenzveröffentlichung |
|---|---|
| Erschienen: | 2006 |
| Autor(en): | Rispal, Lorraine ; Wessely, Frank ; Stefanov, Yordan ; Ruland, Tino ; Schwalke, Udo |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | CMOS-compatible Fabrication Process of Carbon-Nanotube-Field-Effect Transistors |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 14 Juni 2006 |
| Veranstaltungstitel: | IEEE EDS Workshop on Advanced Electron Devices |
| Veranstaltungsort: | Fraunhofer-Institut IMS, Duisburg, Deutschland |
| Veranstaltungsdatum: | 13.06.2006-14.06.2006 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
| Hinterlegungsdatum: | 28 Jun 2011 06:06 |
| Letzte Änderung: | 05 Mär 2013 09:50 |
| PPN: | |
| Export: | |
| Suche nach Titel in: | TUfind oder in Google |
 |
Frage zum Eintrag |
Optionen (nur für Redakteure)
 |
Redaktionelle Details anzeigen |
Drucken
Impressum