Kerber, Andreas ; Cartier, E. ; Pantisano, L. ; Rosmeulen, M. ; Degraeve, R. ; Kauerauf, T. ; Groeseneken, G. ; Maes, H. E. ; Schwalke, Udo (2003)
Characterization of the VT Instability in SiO2/HfO2 Gate Dielectrics.
In: Proceedings of the IEEE International Reliability Physics Symposium (IRPS)
Artikel, Bibliographie