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Carbon Nanotube Transistor Fabrication Assisted by Topographical and Conductive Atomic Force Microscopy

Rispal, Lorraine ; Stefanov, Yordan ; Wessely, Frank ; Schwalke, Udo :
Carbon Nanotube Transistor Fabrication Assisted by Topographical and Conductive Atomic Force Microscopy.
[Online-Edition: http://dx.doi.org/10.1143/JJAP.45.3672]
In: Japanese Journal of Applied Physics, 45 pp. 3672-3679.
[Artikel], (2006)

Offizielle URL: http://dx.doi.org/10.1143/JJAP.45.3672
Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2006
Autor(en): Rispal, Lorraine ; Stefanov, Yordan ; Wessely, Frank ; Schwalke, Udo
Titel: Carbon Nanotube Transistor Fabrication Assisted by Topographical and Conductive Atomic Force Microscopy
Sprache: Englisch
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Japanese Journal of Applied Physics
Band: 45
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik
Hinterlegungsdatum: 20 Nov 2008 08:26
Offizielle URL: http://dx.doi.org/10.1143/JJAP.45.3672
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