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Application of Atomic Force Microscopy in Resist Structure Evaluation

Ruland, Tino ; Stefanov, Yordan ; Rispal, Lorraine ; Schwalke, Udo (2004)
Application of Atomic Force Microscopy in Resist Structure Evaluation.
In: VDI/VDE-Gesellschaft Mess- und Automatisierungstechnik, (1860)
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2004
Autor(en): Ruland, Tino ; Stefanov, Yordan ; Rispal, Lorraine ; Schwalke, Udo
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Application of Atomic Force Microscopy in Resist Structure Evaluation
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 15 Oktober 2004
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: VDI/VDE-Gesellschaft Mess- und Automatisierungstechnik
(Heft-)Nummer: 1860
Veranstaltungstitel: International Symposium on Measurement and Quality Control in Production
Veranstaltungsort: Erlangen, Deutschland
Veranstaltungsdatum: 12.-15.10.2004
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik
Hinterlegungsdatum: 20 Nov 2008 08:20
Letzte Änderung: 20 Feb 2020 13:25
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