Ruland, Tino ; Stefanov, Yordan ; Rispal, Lorraine ; Schwalke, Udo
:
Application of Atomic Force Microscopy in Resist Structure Evaluation.
In:
VDI/VDE-Gesellschaft Mess- und Automatisierungstechnik
(1860)
[Artikel], (2004)
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2004 |
| Autor(en): | Ruland, Tino ; Stefanov, Yordan ; Rispal, Lorraine ; Schwalke, Udo |
| Titel: | Application of Atomic Force Microscopy in Resist Structure Evaluation |
| Sprache: | Englisch |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | VDI/VDE-Gesellschaft Mess- und Automatisierungstechnik |
| (Heft-)Nummer: | 1860 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
| Veranstaltungstitel: | International Symposium on Measurement and Quality Control in Production |
| Veranstaltungsort: | Erlangen, Deutschland |
| Veranstaltungsdatum: | 12.-15.10.2004 |
| Hinterlegungsdatum: | 20 Nov 2008 08:20 |
| Export: |
Optionen (nur für Redakteure)
 |
Eintrag anzeigen |
Drucken
Impressum