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Application of Atomic Force Microscopy in Resist Structure Evaluation

Ruland, Tino ; Stefanov, Yordan ; Rispal, Lorraine ; Schwalke, Udo :
Application of Atomic Force Microscopy in Resist Structure Evaluation.
In: VDI/VDE-Gesellschaft Mess- und Automatisierungstechnik (1860)
[Artikel], (2004)

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2004
Autor(en): Ruland, Tino ; Stefanov, Yordan ; Rispal, Lorraine ; Schwalke, Udo
Titel: Application of Atomic Force Microscopy in Resist Structure Evaluation
Sprache: Englisch
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: VDI/VDE-Gesellschaft Mess- und Automatisierungstechnik
(Heft-)Nummer: 1860
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik
Veranstaltungstitel: International Symposium on Measurement and Quality Control in Production
Veranstaltungsort: Erlangen, Deutschland
Veranstaltungsdatum: 12.-15.10.2004
Hinterlegungsdatum: 20 Nov 2008 08:20
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