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Topographic and Conductive AFM Measurements on Carbon Nanotube Field-Effect Transistors Fabricated by In-Situ Chemical Vapor Deposition

Rispal, Lorraine ; Stefanov, Yordan ; Heller, Rudolf ; Tzschöckel, Gerhard ; Hess, Gisela ; Haberle, Klaus ; Schwalke, Udo (2005)
Topographic and Conductive AFM Measurements on Carbon Nanotube Field-Effect Transistors Fabricated by In-Situ Chemical Vapor Deposition.
International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM). Kobe, Japan (12.09.2005-15.09.2005)
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie

Typ des Eintrags: Konferenzveröffentlichung
Erschienen: 2005
Autor(en): Rispal, Lorraine ; Stefanov, Yordan ; Heller, Rudolf ; Tzschöckel, Gerhard ; Hess, Gisela ; Haberle, Klaus ; Schwalke, Udo
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Topographic and Conductive AFM Measurements on Carbon Nanotube Field-Effect Transistors Fabricated by In-Situ Chemical Vapor Deposition
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 15 September 2005
Veranstaltungstitel: International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM)
Veranstaltungsort: Kobe, Japan
Veranstaltungsdatum: 12.09.2005-15.09.2005
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik
Hinterlegungsdatum: 20 Nov 2008 08:16
Letzte Änderung: 05 Mär 2013 08:57
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