Krauss, Tillmann ; Wessely, Frank ; Schwalke, Udo (2017)
Fabrication and Simulation of Electrically Reconfigurable Dual Metal-gate Planar Field-effect Transistors for Dopant-free CMOS.
In: 12th International Conference on Design and Technology of Integrated Systems in Nanoscale Era (DTIS)
Buchkapitel, Bibliographie
URL / URN: https://doi.org/10.1109/DTIS.2017.7930155
| Typ des Eintrags: | Buchkapitel |
|---|---|
| Erschienen: | 2017 |
| Autor(en): | Krauss, Tillmann ; Wessely, Frank ; Schwalke, Udo |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Fabrication and Simulation of Electrically Reconfigurable Dual Metal-gate Planar Field-effect Transistors for Dopant-free CMOS |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 18 Mai 2017 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | 12th International Conference on Design and Technology of Integrated Systems in Nanoscale Era (DTIS) |
| Buchtitel: | 12th International Conference on Design and Technology of Integrated Systems in Nanoscale Era (DTIS) |
| URL / URN: | https://doi.org/10.1109/DTIS.2017.7930155 |
| Zusätzliche Informationen: | 12th International Conference on Design and Technology of Integrated Systems in Nanoscale Era (DTIS), Palma de Mallorca, Spain, 04.-06.04.2017 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
| Hinterlegungsdatum: | 04 Jul 2017 08:09 |
| Letzte Änderung: | 08 Mai 2024 09:35 |
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