Schwalke, Udo ; Wessely, Frank ; Krauss, Tillmann (2013)
Simulation and Experimental Verification: Dopant-free Si-Nanowire CMOS Technology on Silicon-on-Insulator Material.
8th International Design and Test Symposium (IDT). Marrakesh, Morocco (16.12.2013-18.12.2013)
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie
URL / URN: http://idtsymposium.org/
Typ des Eintrags: | Konferenzveröffentlichung |
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Erschienen: | 2013 |
Autor(en): | Schwalke, Udo ; Wessely, Frank ; Krauss, Tillmann |
Art des Eintrags: | Bibliographie |
Titel: | Simulation and Experimental Verification: Dopant-free Si-Nanowire CMOS Technology on Silicon-on-Insulator Material |
Sprache: | Englisch |
Publikationsjahr: | 18 Dezember 2013 |
Veranstaltungstitel: | 8th International Design and Test Symposium (IDT) |
Veranstaltungsort: | Marrakesh, Morocco |
Veranstaltungsdatum: | 16.12.2013-18.12.2013 |
URL / URN: | http://idtsymposium.org/ |
Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
Hinterlegungsdatum: | 31 Mär 2014 07:32 |
Letzte Änderung: | 31 Mär 2014 07:32 |
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