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CMP-based Gate Last High-K Integration

Endres, Ralf ; Wessely, Frank ; Schwalke, Udo (2008)
CMP-based Gate Last High-K Integration.
In: Proceedings of the 11th Annual Workshop on Semiconductor Advances for Future Electronics and Sensors (SAFE)
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2008
Autor(en): Endres, Ralf ; Wessely, Frank ; Schwalke, Udo
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: CMP-based Gate Last High-K Integration
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 28 November 2008
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Proceedings of the 11th Annual Workshop on Semiconductor Advances for Future Electronics and Sensors (SAFE)
URL / URN: http://www.stw.nl/NR/rdonlyres/678497B6-D48F-4F76-94AF-EB589...
Zusätzliche Informationen:

11th Annual Workshop on Semiconductor Advances for Future Electronics and Sensors (SAFE), Veldhoven, Niederlande, 27.-28.11.2008

Fachbereich(e)/-gebiet(e): 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik
Hinterlegungsdatum: 29 Jun 2011 09:46
Letzte Änderung: 08 Mai 2024 09:03
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