Endres, Ralf ; Wessely, Frank ; Schwalke, Udo (2008)
CMP-based Gate Last High-K Integration.
In: Proceedings of the 11th Annual Workshop on Semiconductor Advances for Future Electronics and Sensors (SAFE)
Artikel, Bibliographie
Typ des Eintrags: | Artikel |
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Erschienen: | 2008 |
Autor(en): | Endres, Ralf ; Wessely, Frank ; Schwalke, Udo |
Art des Eintrags: | Bibliographie |
Titel: | CMP-based Gate Last High-K Integration |
Sprache: | Englisch |
Publikationsjahr: | 28 November 2008 |
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Proceedings of the 11th Annual Workshop on Semiconductor Advances for Future Electronics and Sensors (SAFE) |
URL / URN: | http://www.stw.nl/NR/rdonlyres/678497B6-D48F-4F76-94AF-EB589... |
Zusätzliche Informationen: | 11th Annual Workshop on Semiconductor Advances for Future Electronics and Sensors (SAFE), Veldhoven, Niederlande, 27.-28.11.2008 |
Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
Hinterlegungsdatum: | 29 Jun 2011 09:46 |
Letzte Änderung: | 08 Mai 2024 09:03 |
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