Rispal, Lorraine ; Stefanov, Yordan ; Schwalke, Udo (2005)
Atomic Force Microscopy (AFM) and Electrical Characterization of Carbon Nanotube (CNT) Devices Fabricated by Chemical Vapour Deposition.
Nanoscale III. Santa Barbara, CA, USA (13.08.2005-16.08.2005)
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie
Typ des Eintrags: | Konferenzveröffentlichung |
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Erschienen: | 2005 |
Autor(en): | Rispal, Lorraine ; Stefanov, Yordan ; Schwalke, Udo |
Art des Eintrags: | Bibliographie |
Titel: | Atomic Force Microscopy (AFM) and Electrical Characterization of Carbon Nanotube (CNT) Devices Fabricated by Chemical Vapour Deposition |
Sprache: | Englisch |
Publikationsjahr: | 16 August 2005 |
Veranstaltungstitel: | Nanoscale III |
Veranstaltungsort: | Santa Barbara, CA, USA |
Veranstaltungsdatum: | 13.08.2005-16.08.2005 |
Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
Hinterlegungsdatum: | 27 Jun 2011 14:05 |
Letzte Änderung: | 05 Mär 2013 09:50 |
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