Wessely, Frank ; Rispal, Lorraine ; Schwalke, Udo (2007)
Mix-and-Match Lithography Based Ultrathin-body SOI Nanowires and Schottky-S/D-FETs.
In: Proceedings of Semiconductor Advances for Future Electronics (SAFE)
Artikel, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2007 |
| Autor(en): | Wessely, Frank ; Rispal, Lorraine ; Schwalke, Udo |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Mix-and-Match Lithography Based Ultrathin-body SOI Nanowires and Schottky-S/D-FETs |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 30 September 2007 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Proceedings of Semiconductor Advances for Future Electronics (SAFE) |
| URL / URN: | http://www.stw.nl/NR/rdonlyres/ADD2FB2C-3AD4-4D1E-BA0A-1EAEA... |
| Zusätzliche Informationen: | 10th Annual Workshop on Semiconductor Advances for Future Electronics and Sensors (SAFE), Veldhoven, Niederlande, 29.-30.09.2007 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
| Hinterlegungsdatum: | 20 Nov 2008 08:28 |
| Letzte Änderung: | 08 Mai 2024 09:07 |
| PPN: | |
| Export: | |
| Suche nach Titel in: | TUfind oder in Google |
 |
Frage zum Eintrag |
Optionen (nur für Redakteure)
 |
Redaktionelle Details anzeigen |
Drucken
Impressum