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Gate Engineering for High-K Dielectric and Ultra-thin Gate Oxide CMOS

Komaragiri, Rama Subrahmanyam ; Zaunert, Florian ; Schwalke, Udo :
Gate Engineering for High-K Dielectric and Ultra-thin Gate Oxide CMOS.
In: 11th Annual Workshop on Semiconductor Advances for Future Electronics (SAFE), 24.-25.11.2004, Veldhoven, Niederlande.
[Konferenz- oder Workshop-Beitrag], (2004)

Typ des Eintrags: Konferenz- oder Workshop-Beitrag (Keine Angabe)
Erschienen: 2004
Autor(en): Komaragiri, Rama Subrahmanyam ; Zaunert, Florian ; Schwalke, Udo
Titel: Gate Engineering for High-K Dielectric and Ultra-thin Gate Oxide CMOS
Sprache: Englisch
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik
Veranstaltungstitel: 11th Annual Workshop on Semiconductor Advances for Future Electronics (SAFE)
Veranstaltungsort: Veldhoven, Niederlande
Veranstaltungsdatum: 24.-25.11.2004
Hinterlegungsdatum: 20 Nov 2008 08:24
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