Komaragiri, Rama Subrahmanyam ; Zaunert, Florian ; Schwalke, Udo (2004)
Gate Engineering for High-K Dielectric and Ultra-thin Gate Oxide CMOS.
11th Annual Workshop on Semiconductor Advances for Future Electronics (SAFE). Veldhoven, Niederlande (24.11.2004-25.11.2004)
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Konferenzveröffentlichung |
|---|---|
| Erschienen: | 2004 |
| Autor(en): | Komaragiri, Rama Subrahmanyam ; Zaunert, Florian ; Schwalke, Udo |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Gate Engineering for High-K Dielectric and Ultra-thin Gate Oxide CMOS |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 25 November 2004 |
| Veranstaltungstitel: | 11th Annual Workshop on Semiconductor Advances for Future Electronics (SAFE) |
| Veranstaltungsort: | Veldhoven, Niederlande |
| Veranstaltungsdatum: | 24.11.2004-25.11.2004 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
| Hinterlegungsdatum: | 20 Nov 2008 08:24 |
| Letzte Änderung: | 05 Mär 2013 09:10 |
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