Kerber, Andreas ; Cartier, E. ; Degraeve, R. ; Roussel, Ph. ; Pantisano, L. ; Kauerauf, T. ; Groeseneken, G. ; Maes, H. E. ; Schwalke, Udo (2003)
Charge Trapping and Dielectric Reliability of SiO2/Al2O3 Gate Stacks with TiN Electrodes.
In: IEEE Transactions on Electron Devices, 50 (5)
Artikel, Bibliographie
URL / URN: http://dx.doi.org/10.1109/TED.2003.813486
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2003 |
| Autor(en): | Kerber, Andreas ; Cartier, E. ; Degraeve, R. ; Roussel, Ph. ; Pantisano, L. ; Kauerauf, T. ; Groeseneken, G. ; Maes, H. E. ; Schwalke, Udo |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Charge Trapping and Dielectric Reliability of SiO2/Al2O3 Gate Stacks with TiN Electrodes |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | Mai 2003 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | IEEE Transactions on Electron Devices |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 50 |
| (Heft-)Nummer: | 5 |
| URL / URN: | http://dx.doi.org/10.1109/TED.2003.813486 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
| Hinterlegungsdatum: | 20 Nov 2008 08:15 |
| Letzte Änderung: | 20 Feb 2020 13:25 |
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