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Spannungsanisotropie und Struktur von TiN-Schichten.
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Stobiecki, T. ; Stobiecki, ; Conradi, ; Kraegermann, ; Röll, ; Berg, (1995)
RFA as control of the reactive sputtering process on TiN films.
In: Fresenius journal of analytical chemistry. 353 (1995), S. 536-540
Article