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RFA as control of the reactive sputtering process on TiN films

Stobiecki, T. ; Stobiecki, ; Conradi, ; Kraegermann, ; Röll, ; Berg, :
RFA as control of the reactive sputtering process on TiN films.
In: Fresenius journal of analytical chemistry. 353 (1995), S. 536-540
[Artikel], (1995)

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 1995
Autor(en): Stobiecki, T. ; Stobiecki, ; Conradi, ; Kraegermann, ; Röll, ; Berg,
Titel: RFA as control of the reactive sputtering process on TiN films
Sprache: Englisch
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Fresenius journal of analytical chemistry. 353 (1995), S. 536-540
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Maschinenbau
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 15:56
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