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Impact of in situ SiNx layer grown with metal organic vapor phase epitaxy on the electrical and optical properties of AlN/GaN metal insulator semiconductor field effect transistor structures

Cho, E. ; Seo, S. ; Jin, C. ; Pavlidis, D. ; Fu, G. ; Tuerck, J. ; Jaegermann, W. (2009)
Impact of in situ SiNx layer grown with metal organic vapor phase epitaxy on the electrical and optical properties of AlN/GaN metal insulator semiconductor field effect transistor structures.
In: Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures, 27 (5)
doi: 10.1116/1.3186615
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2009
Autor(en): Cho, E. ; Seo, S. ; Jin, C. ; Pavlidis, D. ; Fu, G. ; Tuerck, J. ; Jaegermann, W.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Impact of in situ SiNx layer grown with metal organic vapor phase epitaxy on the electrical and optical properties of AlN/GaN metal insulator semiconductor field effect transistor structures
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: September 2009
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 27
(Heft-)Nummer: 5
DOI: 10.1116/1.3186615
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung
Hinterlegungsdatum: 25 Mär 2015 21:32
Letzte Änderung: 25 Mär 2015 21:32
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