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Study of Pinholes in Ultrathin SiO2 by C-AFM Technique

Marathe, Vaibhav G. ; Stefanov, Yordan ; Schwalke, Udo ; DasGupta, Nandita (2006)
Study of Pinholes in Ultrathin SiO2 by C-AFM Technique.
In: Thin Solid Films, 504 (1-2)
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2006
Autor(en): Marathe, Vaibhav G. ; Stefanov, Yordan ; Schwalke, Udo ; DasGupta, Nandita
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Study of Pinholes in Ultrathin SiO2 by C-AFM Technique
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 2006
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Thin Solid Films
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 504
(Heft-)Nummer: 1-2
URL / URN: http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2005.09.019
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik
Hinterlegungsdatum: 05 Jul 2011 06:46
Letzte Änderung: 05 Mär 2013 09:50
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