Rispal, Lorraine ; Tschischke, T. ; Yang, Hongyu ; Schwalke, Udo (2008)
Polymethyl Methacrylate Passivation of Carbon Nanotube Field-Effect Transistors: Novel Self-aligned Process and Influence on Device Transfer Characteristic Hysteresis.
In: Japanese Journal of Applied Physics, 47 (4)
Artikel, Bibliographie
URL / URN: http://dx.doi.org/10.1143/JJAP.47.3287
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2008 |
| Autor(en): | Rispal, Lorraine ; Tschischke, T. ; Yang, Hongyu ; Schwalke, Udo |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Polymethyl Methacrylate Passivation of Carbon Nanotube Field-Effect Transistors: Novel Self-aligned Process and Influence on Device Transfer Characteristic Hysteresis |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 2008 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Japanese Journal of Applied Physics |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 47 |
| (Heft-)Nummer: | 4 |
| URL / URN: | http://dx.doi.org/10.1143/JJAP.47.3287 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
| Hinterlegungsdatum: | 29 Jun 2011 10:37 |
| Letzte Änderung: | 05 Mär 2013 09:50 |
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