Rispal, Lorraine ; Schwalke, Udo (2008)
Large-Scale In Situ Fabrication of Voltage-Programmable Dual-Layer High-k Dielectric Carbon Nanotube Memory Devices With High On/Off Ratio.
In: IEEE Electron Device Letters, 29 (12)
Artikel, Bibliographie
URL / URN: http://dx.doi.org/10.1109/LED.2008.2005850
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2008 |
| Autor(en): | Rispal, Lorraine ; Schwalke, Udo |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Large-Scale In Situ Fabrication of Voltage-Programmable Dual-Layer High-k Dielectric Carbon Nanotube Memory Devices With High On/Off Ratio |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 7 November 2008 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | IEEE Electron Device Letters |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 29 |
| (Heft-)Nummer: | 12 |
| URL / URN: | http://dx.doi.org/10.1109/LED.2008.2005850 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
| Hinterlegungsdatum: | 29 Jun 2011 10:20 |
| Letzte Änderung: | 05 Mär 2013 09:50 |
| PPN: | |
| Export: | |
| Suche nach Titel in: | TUfind oder in Google |
 |
Frage zum Eintrag |
Optionen (nur für Redakteure)
 |
Redaktionelle Details anzeigen |
Drucken
Impressum