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Prozessintegration und elektrische Charakterisierung von kristallinen Gd2O3 High-k Dielektrika

Endres, Ralf ; Schwalke, Udo (2010)
Prozessintegration und elektrische Charakterisierung von kristallinen Gd2O3 High-k Dielektrika.
VDE-Fachgruppentagung 8.5.6 - fWLR / Wafer Level Reliability. Erfurt, Deutschland (17.05.2010-18.05.2010)
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie

Typ des Eintrags: Konferenzveröffentlichung
Erschienen: 2010
Autor(en): Endres, Ralf ; Schwalke, Udo
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Prozessintegration und elektrische Charakterisierung von kristallinen Gd2O3 High-k Dielektrika
Sprache: Deutsch
Publikationsjahr: 18 Mai 2010
Veranstaltungstitel: VDE-Fachgruppentagung 8.5.6 - fWLR / Wafer Level Reliability
Veranstaltungsort: Erfurt, Deutschland
Veranstaltungsdatum: 17.05.2010-18.05.2010
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik
Hinterlegungsdatum: 28 Jun 2011 10:17
Letzte Änderung: 22 Mai 2013 14:10
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