Endres, Ralf ; Schwalke, Udo (2007)
Damascene Metal Gate Technology: A Novel Approach towards Nano CMOS Devices with Crystalline High-K Gate Dielectrics.
Nanotech Northern Europe (NTNE). Helsinki, Finnland (27.03.2007-29.03.2007)
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Konferenzveröffentlichung |
|---|---|
| Erschienen: | 2007 |
| Autor(en): | Endres, Ralf ; Schwalke, Udo |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Damascene Metal Gate Technology: A Novel Approach towards Nano CMOS Devices with Crystalline High-K Gate Dielectrics |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 29 März 2007 |
| Veranstaltungstitel: | Nanotech Northern Europe (NTNE) |
| Veranstaltungsort: | Helsinki, Finnland |
| Veranstaltungsdatum: | 27.03.2007-29.03.2007 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
| Hinterlegungsdatum: | 20 Nov 2008 08:28 |
| Letzte Änderung: | 05 Mär 2013 09:15 |
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