Endres, Ralf ; Schwalke, Udo (2007)
Damascene Metal Gate Technology: A Front-End CMP Based Universal Platform for High-k Evaluation at the Device Level.
In: Proceedings of the International Conference on Planarization Technology 2007 (ICPT)
Artikel, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2007 |
| Autor(en): | Endres, Ralf ; Schwalke, Udo |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Damascene Metal Gate Technology: A Front-End CMP Based Universal Platform for High-k Evaluation at the Device Level |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 26 Oktober 2007 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Proceedings of the International Conference on Planarization Technology 2007 (ICPT) |
| Veranstaltungstitel: | International Conference on Planarization Technology (ICPT) |
| Veranstaltungsort: | Dresden, Deutschland |
| Veranstaltungsdatum: | 25.-26.10.2007 |
| URL / URN: | http://elib1.ulb.tu-darmstadt.de/ieee/search/srchabstract.js... |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
| Hinterlegungsdatum: | 20 Nov 2008 08:28 |
| Letzte Änderung: | 20 Feb 2020 13:23 |
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