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Damascene Metal Gate Technology: A Front-End CMP Based Universal Platform for High-k Evaluation at the Device Level

Endres, Ralf ; Schwalke, Udo :
Damascene Metal Gate Technology: A Front-End CMP Based Universal Platform for High-k Evaluation at the Device Level.
[Online-Edition: http://elib1.ulb.tu-darmstadt.de/ieee/search/srchabstract.js...]
In: Proceedings of the International Conference on Planarization Technology 2007 (ICPT) pp. 421-426.
[Artikel], (2007)

Offizielle URL: http://elib1.ulb.tu-darmstadt.de/ieee/search/srchabstract.js...
Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2007
Autor(en): Endres, Ralf ; Schwalke, Udo
Titel: Damascene Metal Gate Technology: A Front-End CMP Based Universal Platform for High-k Evaluation at the Device Level
Sprache: Englisch
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Proceedings of the International Conference on Planarization Technology 2007 (ICPT)
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik
Veranstaltungstitel: International Conference on Planarization Technology (ICPT)
Veranstaltungsort: Dresden, Deutschland
Veranstaltungsdatum: 25.-26.10.2007
Hinterlegungsdatum: 20 Nov 2008 08:28
Offizielle URL: http://elib1.ulb.tu-darmstadt.de/ieee/search/srchabstract.js...
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