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Conductive Atomic Force Microscopy Study of Leakage Currents Through Microscopic Structural Defects in High-K Gate Dielectrics

Stefanov, Yordan ; Singh, Ravneet ; DasGupta, Nandita ; Misra, Pankaj ; Schwalke, Udo (2005)
Conductive Atomic Force Microscopy Study of Leakage Currents Through Microscopic Structural Defects in High-K Gate Dielectrics.
In: Proceedings of The Electrochemical Society Conference "Crystalline Defects and Contamination" (ECS-DECON)
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2005
Autor(en): Stefanov, Yordan ; Singh, Ravneet ; DasGupta, Nandita ; Misra, Pankaj ; Schwalke, Udo
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Conductive Atomic Force Microscopy Study of Leakage Currents Through Microscopic Structural Defects in High-K Gate Dielectrics
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 16 September 2005
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Proceedings of The Electrochemical Society Conference "Crystalline Defects and Contamination" (ECS-DECON)
Veranstaltungstitel: The Electrochemical Society Conference "Crystalline Defects and Contamination" (ECS-DECON)
Veranstaltungsort: Grenoble, Frankreich
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik
Hinterlegungsdatum: 20 Nov 2008 08:22
Letzte Änderung: 20 Feb 2020 13:24
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