Schwalke, Udo ; Stefanov, Yordan (2004)
Process Integration and Electrical Characterization of Crystalline High-K Gate Dielectrics.
13th Workshop on Dielectrics in Microelectronics (WoDIM). Kinsale, Irland (28.06.2004-30.06.2004)
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Konferenzveröffentlichung |
|---|---|
| Erschienen: | 2004 |
| Autor(en): | Schwalke, Udo ; Stefanov, Yordan |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Process Integration and Electrical Characterization of Crystalline High-K Gate Dielectrics |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 30 Juni 2004 |
| Verlag: | Elsevier |
| Veranstaltungstitel: | 13th Workshop on Dielectrics in Microelectronics (WoDIM) |
| Veranstaltungsort: | Kinsale, Irland |
| Veranstaltungsdatum: | 28.06.2004-30.06.2004 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
| Hinterlegungsdatum: | 20 Nov 2008 08:20 |
| Letzte Änderung: | 05 Mär 2013 09:04 |
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