Kim-Ngan, Nhu-T. H. ; Havela, L. ; Adamska, A. M. ; Daniš, S. ; Pešička, J. ; Macl, J. ; Eloirdi, R. ; Huber, F. ; Gouder, T. ; Balogh, A. G. (2024)
Characterization of U-based thin films: the UFe₂₊ₓ case.
In: Journal of Physics: Conference Series, 2011, 303 (1)
doi: 10.26083/tuprints-00020752
Artikel, Zweitveröffentlichung, Verlagsversion
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Kurzbeschreibung (Abstract)
We have characterized UFe₂₊ₓ films prepared by sputter deposition onto fused silica (SiO₂) and Si(111) substrates with the film thickness ranging from 75 nm to 900 nm. The X-ray diffraction results showed an amorphous character of the deposited material. Some of the films showed in addition a pattern of highly textured cubic Laves phase. Rutherford Backscattering Spectroscopy with 2 MeV He⁺ ions has been used to determine the composition, thickness and concentration depth profile of the films. A large ageing affect was observed within 1 month after that the films were exposed to air. Magnetic measurements revealed TC increasing with relative Fe concentration and reaching approx. 450 K in UFe₃.₀.
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2024 |
| Autor(en): | Kim-Ngan, Nhu-T. H. ; Havela, L. ; Adamska, A. M. ; Daniš, S. ; Pešička, J. ; Macl, J. ; Eloirdi, R. ; Huber, F. ; Gouder, T. ; Balogh, A. G. |
| Art des Eintrags: | Zweitveröffentlichung |
| Titel: | Characterization of U-based thin films: the UFe₂₊ₓ case |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 23 Januar 2024 |
| Ort: | Darmstadt |
| Publikationsdatum der Erstveröffentlichung: | 2011 |
| Ort der Erstveröffentlichung: | Bristol |
| Verlag: | IOP Publishing |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Journal of Physics: Conference Series |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 303 |
| (Heft-)Nummer: | 1 |
| Kollation: | 8 Seiten |
| DOI: | 10.26083/tuprints-00020752 |
| URL / URN: | https://tuprints.ulb.tu-darmstadt.de/20752 |
| Zugehörige Links: | |
| Herkunft: | Zweitveröffentlichung DeepGreen |
| Kurzbeschreibung (Abstract): | We have characterized UFe₂₊ₓ films prepared by sputter deposition onto fused silica (SiO₂) and Si(111) substrates with the film thickness ranging from 75 nm to 900 nm. The X-ray diffraction results showed an amorphous character of the deposited material. Some of the films showed in addition a pattern of highly textured cubic Laves phase. Rutherford Backscattering Spectroscopy with 2 MeV He⁺ ions has been used to determine the composition, thickness and concentration depth profile of the films. A large ageing affect was observed within 1 month after that the films were exposed to air. Magnetic measurements revealed TC increasing with relative Fe concentration and reaching approx. 450 K in UFe₃.₀. |
| Status: | Verlagsversion |
| URN: | urn:nbn:de:tuda-tuprints-207525 |
| Zusätzliche Informationen: | Joint European Magnetic Symposia – JEMS 2010 23–28 August 2010, Krakow, Poland |
| Sachgruppe der Dewey Dezimalklassifikatin (DDC): | 500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik 500 Naturwissenschaften und Mathematik > 540 Chemie |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Materialanalytik |
| Hinterlegungsdatum: | 23 Jan 2024 10:05 |
| Letzte Änderung: | 24 Jan 2024 07:27 |
| PPN: | |
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Verfügbare Versionen dieses Eintrags
- Characterization of U-based thin films: the UFe₂₊ₓ case. (deposited 23 Jan 2024 10:05) [Gegenwärtig angezeigt]
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