Böttner, Th. ; Kräutle, H. ; Kuphal, E. ; Miethe, K. ; Hartnagel, H. L. (1996)
Surface- and sidewall-damage of InP-based optoelectronic devices during reactive ion etching using CH4/H2.
International Conference on Indium Phosphide and Related Materials. Schwäbisch Gmünd (8.1996)
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Konferenzveröffentlichung |
|---|---|
| Erschienen: | 1996 |
| Autor(en): | Böttner, Th. ; Kräutle, H. ; Kuphal, E. ; Miethe, K. ; Hartnagel, H. L. |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Surface- and sidewall-damage of InP-based optoelectronic devices during reactive ion etching using CH4/H2 |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 1996 |
| Buchtitel: | International Conference on Indium Phosphide and Related Materials : 8, 1996, Schwäbisch Gmünd ; Proceedings |
| Veranstaltungstitel: | International Conference on Indium Phosphide and Related Materials |
| Veranstaltungsort: | Schwäbisch Gmünd |
| Veranstaltungsdatum: | 8.1996 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Mikrowellenelektronik |
| Hinterlegungsdatum: | 19 Nov 2008 16:04 |
| Letzte Änderung: | 24 Sep 2024 11:19 |
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