Rudolph, R. ; Pettenkofer, C. ; Klein, Andreas ; Jaegermann, W. (2000)
Chemical passivation of Si(111) capped by a thin GaSe layer.
In: Applied Surface Science, 167 (1-2)
doi: 10.1016/S0169-4332(00)00515-8
Artikel, Bibliographie
Typ des Eintrags: | Artikel |
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Erschienen: | 2000 |
Autor(en): | Rudolph, R. ; Pettenkofer, C. ; Klein, Andreas ; Jaegermann, W. |
Art des Eintrags: | Bibliographie |
Titel: | Chemical passivation of Si(111) capped by a thin GaSe layer |
Sprache: | Englisch |
Publikationsjahr: | 16 Oktober 2000 |
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Applied Surface Science |
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 167 |
(Heft-)Nummer: | 1-2 |
DOI: | 10.1016/S0169-4332(00)00515-8 |
Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung |
Hinterlegungsdatum: | 18 Feb 2015 12:47 |
Letzte Änderung: | 29 Jan 2019 09:39 |
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