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Chemical passivation of Si(111) capped by a thin GaSe layer

Rudolph, R. ; Pettenkofer, C. ; Klein, Andreas ; Jaegermann, W. (2000)
Chemical passivation of Si(111) capped by a thin GaSe layer.
In: Applied Surface Science, 167 (1-2)
doi: 10.1016/S0169-4332(00)00515-8
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2000
Autor(en): Rudolph, R. ; Pettenkofer, C. ; Klein, Andreas ; Jaegermann, W.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Chemical passivation of Si(111) capped by a thin GaSe layer
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 16 Oktober 2000
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Applied Surface Science
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 167
(Heft-)Nummer: 1-2
DOI: 10.1016/S0169-4332(00)00515-8
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung
Hinterlegungsdatum: 18 Feb 2015 12:47
Letzte Änderung: 29 Jan 2019 09:39
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