Wechsler, K. ; Rangelow, I. ; Borkowicz, Z. ; Durst, F. ; Kadinski, L. ; Schäfer, M. (1993)
Experimental and Numerical Study of the Effects of Neutral Transport and Chemical Kinetics on Plasma Etching System CF4/Si.
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Konferenzveröffentlichung |
|---|---|
| Erschienen: | 1993 |
| Autor(en): | Wechsler, K. ; Rangelow, I. ; Borkowicz, Z. ; Durst, F. ; Kadinski, L. ; Schäfer, M. |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Experimental and Numerical Study of the Effects of Neutral Transport and Chemical Kinetics on Plasma Etching System CF4/Si |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 1993 |
| Buchtitel: | Proceedings of International Symposium on Plasma Etching |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 16 Fachbereich Maschinenbau > Fachgebiet für Numerische Berechnungsverfahren im Maschinenbau (FNB) 16 Fachbereich Maschinenbau |
| Hinterlegungsdatum: | 24 Mär 2014 16:05 |
| Letzte Änderung: | 24 Mär 2014 16:05 |
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