Volz, K. ; Klatt, Ch. ; Ensinger, Wolfgang (2000)
Composition and structure of SiCx:H Films Formed by Plasma Immersion Ion Implantation from a Methane Plasma.
In: Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 609
Artikel, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2000 |
| Autor(en): | Volz, K. ; Klatt, Ch. ; Ensinger, Wolfgang |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Composition and structure of SiCx:H Films Formed by Plasma Immersion Ion Implantation from a Methane Plasma |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 2000 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 609 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Materialanalytik 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften |
| Hinterlegungsdatum: | 25 Jun 2012 09:37 |
| Letzte Änderung: | 05 Mär 2013 10:01 |
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