Schwalke, Udo (2009)
Damscene Metal Gate Technology: A Solution to High-K Gate Stack Challenges?
DGM Arbeitskreis "Materialien für elektronische Anwendungen". Berlin, Deutschland (20.02.2009)
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Konferenzveröffentlichung |
|---|---|
| Erschienen: | 2009 |
| Autor(en): | Schwalke, Udo |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Damscene Metal Gate Technology: A Solution to High-K Gate Stack Challenges? |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 20 Februar 2009 |
| Veranstaltungstitel: | DGM Arbeitskreis "Materialien für elektronische Anwendungen" |
| Veranstaltungsort: | Berlin, Deutschland |
| Veranstaltungsdatum: | 20.02.2009 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
| Hinterlegungsdatum: | 29 Jun 2011 09:34 |
| Letzte Änderung: | 28 Mär 2024 13:48 |
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