Schwalke, Udo (2010)
Nanoscale Electrical Characterization at the Wafer Level: Defects in High-k Dielectrics.
VDE-Fachgruppentagung 8.5.6 - fWLR / Wafer Level Reliability. Erfurt, Deutschland (17.05.2010-18.05.2010)
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie
Typ des Eintrags: | Konferenzveröffentlichung |
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Erschienen: | 2010 |
Autor(en): | Schwalke, Udo |
Art des Eintrags: | Bibliographie |
Titel: | Nanoscale Electrical Characterization at the Wafer Level: Defects in High-k Dielectrics |
Sprache: | Englisch |
Publikationsjahr: | 18 Mai 2010 |
Veranstaltungstitel: | VDE-Fachgruppentagung 8.5.6 - fWLR / Wafer Level Reliability |
Veranstaltungsort: | Erfurt, Deutschland |
Veranstaltungsdatum: | 17.05.2010-18.05.2010 |
Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
Hinterlegungsdatum: | 28 Jun 2011 10:15 |
Letzte Änderung: | 22 Mai 2013 13:50 |
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