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Nanoscale Electrical Characterization at the Wafer Level: Defects in High-k Dielectrics

Schwalke, Udo (2010)
Nanoscale Electrical Characterization at the Wafer Level: Defects in High-k Dielectrics.
VDE-Fachgruppentagung 8.5.6 - fWLR / Wafer Level Reliability. Erfurt, Deutschland (17.05.2010-18.05.2010)
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie

Typ des Eintrags: Konferenzveröffentlichung
Erschienen: 2010
Autor(en): Schwalke, Udo
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Nanoscale Electrical Characterization at the Wafer Level: Defects in High-k Dielectrics
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 18 Mai 2010
Veranstaltungstitel: VDE-Fachgruppentagung 8.5.6 - fWLR / Wafer Level Reliability
Veranstaltungsort: Erfurt, Deutschland
Veranstaltungsdatum: 17.05.2010-18.05.2010
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik
Hinterlegungsdatum: 28 Jun 2011 10:15
Letzte Änderung: 22 Mai 2013 13:50
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