Schwalke, Udo (2005)
Gate Dielectrics: Process Integration Issues and Electrical Properties.
In: Journal of Telecommunications and Technology, 1
Artikel, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2005 |
| Autor(en): | Schwalke, Udo |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Gate Dielectrics: Process Integration Issues and Electrical Properties |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 2005 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Journal of Telecommunications and Technology |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 1 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
| Hinterlegungsdatum: | 20 Nov 2008 08:22 |
| Letzte Änderung: | 20 Feb 2020 13:25 |
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