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X-ray Raman scattering at the Si L II,III-edge of bulk amorphous SiO

Sternemann, C. ; Soininen, J. A. ; Volmer, M. ; Hohl, Achim ; Vankó, G. ; Streit, S. ; Tolan, M. (2005)
X-ray Raman scattering at the Si L II,III-edge of bulk amorphous SiO.
In: Journal of physics and chemistry of solids, 66
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2005
Autor(en): Sternemann, C. ; Soininen, J. A. ; Volmer, M. ; Hohl, Achim ; Vankó, G. ; Streit, S. ; Tolan, M.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: X-ray Raman scattering at the Si L II,III-edge of bulk amorphous SiO
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 2005
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Journal of physics and chemistry of solids
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 66
Zusätzliche Informationen:

Zeichendarst. im Sacht. teilw. nicht vorlagegemäß wiedergegeben

Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
Hinterlegungsdatum: 20 Nov 2008 08:21
Letzte Änderung: 20 Feb 2020 13:25
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