Tarnawski, Z. ; Zakrzewska, K. ; Kim-Ngan, N.-T. H. ; Krupska, M. ; Sowa, S. ; Drogowska, K. ; Havela, L. ; Balogh, A. G. (2024)
Hydrogen storage in Ti, V and their oxides-based thin films.
In: Advances in Natural Sciences: Nanoscience and Nanotechnology, 2014, 6 (1)
doi: 10.26083/tuprints-00020373
Artikel, Zweitveröffentlichung, Verlagsversion
 | Es ist eine neuere Version dieses Eintrags verfügbar. |
Kurzbeschreibung (Abstract)
We have investigated the hydrogen storage ability and the effect of hydrogenation on structure and physical properties of Ti/V and their oxides-based thin films. A series of Ti–TiO₂ and VOx–TiO₂ thin films with different layer structures, geometries and thicknesses have been prepared by the sputtering technique on different (Si(111), SiO₂, C) substrates. For the Ti–TiO₂–Ti films up to 50 at.% of hydrogen can be stored in the Ti layers, while the hydrogen can penetrate without accumulation through the TiO₂ layer. A large hydrogen storage was also found in some V₂O₅–TiO₂ films. Hydrogen could also remove the preferential orientation in the Ti films and induce a transition of V₂O₅ to VO₂ in the films.
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2024 |
| Autor(en): | Tarnawski, Z. ; Zakrzewska, K. ; Kim-Ngan, N.-T. H. ; Krupska, M. ; Sowa, S. ; Drogowska, K. ; Havela, L. ; Balogh, A. G. |
| Art des Eintrags: | Zweitveröffentlichung |
| Titel: | Hydrogen storage in Ti, V and their oxides-based thin films |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 19 März 2024 |
| Ort: | Darmstadt |
| Publikationsdatum der Erstveröffentlichung: | 2014 |
| Ort der Erstveröffentlichung: | Bristol |
| Verlag: | IOP Publishing |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Advances in Natural Sciences: Nanoscience and Nanotechnology |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 6 |
| (Heft-)Nummer: | 1 |
| Kollation: | 8 Seiten |
| DOI: | 10.26083/tuprints-00020373 |
| URL / URN: | https://tuprints.ulb.tu-darmstadt.de/20373 |
| Zugehörige Links: | |
| Herkunft: | Zweitveröffentlichung DeepGreen |
| Kurzbeschreibung (Abstract): | We have investigated the hydrogen storage ability and the effect of hydrogenation on structure and physical properties of Ti/V and their oxides-based thin films. A series of Ti–TiO₂ and VOx–TiO₂ thin films with different layer structures, geometries and thicknesses have been prepared by the sputtering technique on different (Si(111), SiO₂, C) substrates. For the Ti–TiO₂–Ti films up to 50 at.% of hydrogen can be stored in the Ti layers, while the hydrogen can penetrate without accumulation through the TiO₂ layer. A large hydrogen storage was also found in some V₂O₅–TiO₂ films. Hydrogen could also remove the preferential orientation in the Ti films and induce a transition of V₂O₅ to VO₂ in the films. |
| Freie Schlagworte: | titan oxides, vanadium oxides, multilayers, crystal structure, hydrogen storage |
| Status: | Verlagsversion |
| URN: | urn:nbn:de:tuda-tuprints-203734 |
| Zusätzliche Informationen: | Invited talk at the 7th International Workshop on Advanced Materials Science and Nanotechnology IWAMSN2014, 2-6 November, 2014, Ha Long, Vietnam. |
| Sachgruppe der Dewey Dezimalklassifikatin (DDC): | 500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik 500 Naturwissenschaften und Mathematik > 540 Chemie |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Materialanalytik |
| Hinterlegungsdatum: | 19 Mär 2024 10:10 |
| Letzte Änderung: | 20 Mär 2024 09:38 |
| PPN: | |
| Export: | |
| Suche nach Titel in: | TUfind oder in Google |
Verfügbare Versionen dieses Eintrags
- Hydrogen storage in Ti, V and their oxides-based thin films. (deposited 19 Mär 2024 10:10) [Gegenwärtig angezeigt]
 |
Frage zum Eintrag |
Optionen (nur für Redakteure)
 |
Redaktionelle Details anzeigen |
Drucken
Impressum