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The characteristics of high-resistance layers produced in n-GaAs using MeV-nitrogen implantation for three-dimensional structuring

Miao, Jianmin ; Tiginyanu, I. M. ; Hartnagel, Hans L. (1997)
The characteristics of high-resistance layers produced in n-GaAs using MeV-nitrogen implantation for three-dimensional structuring.
In: Applied Physics Letters, 70 (7)
doi: 10.1063/1.118222
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 1997
Autor(en): Miao, Jianmin ; Tiginyanu, I. M. ; Hartnagel, Hans L.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: The characteristics of high-resistance layers produced in n-GaAs using MeV-nitrogen implantation for three-dimensional structuring
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 1997
Verlag: AIP Publishing
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Applied Physics Letters
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 70
(Heft-)Nummer: 7
DOI: 10.1063/1.118222
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Mikrowellenelektronik
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 15:55
Letzte Änderung: 13 Dez 2023 14:19
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