Noll, Dennis ; Schwalke, Udo (2015)
Silicon CMOS Compatible In-situ CCVD Growth of Graphene on Silicon Nitride.
10th International Conference on Design and Technology of Integrated Systems in Nanoscale Era (DTIS). Naples, Italy (21.04.2015-23.04.2015)
doi: 10.1109/DTIS.2015.7127387
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Konferenzveröffentlichung |
|---|---|
| Erschienen: | 2015 |
| Autor(en): | Noll, Dennis ; Schwalke, Udo |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Silicon CMOS Compatible In-situ CCVD Growth of Graphene on Silicon Nitride |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | April 2015 |
| Ort: | Naples, Italy |
| Veranstaltungstitel: | 10th International Conference on Design and Technology of Integrated Systems in Nanoscale Era (DTIS) |
| Veranstaltungsort: | Naples, Italy |
| Veranstaltungsdatum: | 21.04.2015-23.04.2015 |
| DOI: | 10.1109/DTIS.2015.7127387 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
| Hinterlegungsdatum: | 30 Jul 2019 09:33 |
| Letzte Änderung: | 30 Jul 2019 09:33 |
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