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Comparison of photo- and plasma-assisted passivating process effects on GaAs devices by means of low-frequency noise measurements

Gottwald, P. ; Riemenschneider, R. ; Szentpali, B. ; Hartnagel, H. L. ; Kincses, Z. ; Ruszinko, M. (1995)
Comparison of photo- and plasma-assisted passivating process effects on GaAs devices by means of low-frequency noise measurements.
In: Solid state electronics, 38 (2)
doi: 10.1016/0038-1101(94)00100-T
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 1995
Autor(en): Gottwald, P. ; Riemenschneider, R. ; Szentpali, B. ; Hartnagel, H. L. ; Kincses, Z. ; Ruszinko, M.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Comparison of photo- and plasma-assisted passivating process effects on GaAs devices by means of low-frequency noise measurements
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 1995
Verlag: Elsevier
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Solid state electronics
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 38
(Heft-)Nummer: 2
DOI: 10.1016/0038-1101(94)00100-T
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Mikrowellenelektronik
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 16:05
Letzte Änderung: 24 Feb 2022 12:33
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