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Comparison of photo- and plasma-assisted passivating process effects on GaAs devices by means of low-frequency noise measurements

Gottwald, P. ; Riemenschneider, ; Szentpali, ; Hartnagel, ; Kincses, ; Ruszinko, :
Comparison of photo- and plasma-assisted passivating process effects on GaAs devices by means of low-frequency noise measurements.
In: Solid state electronics. 38 (1995), Nr. 2, S. 413-417
[Artikel], (1995)

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 1995
Autor(en): Gottwald, P. ; Riemenschneider, ; Szentpali, ; Hartnagel, ; Kincses, ; Ruszinko,
Titel: Comparison of photo- and plasma-assisted passivating process effects on GaAs devices by means of low-frequency noise measurements
Sprache: Englisch
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Solid state electronics. 38 (1995), Nr. 2, S. 413-417
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 16:05
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