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Epitaxial Growth of Copper, Silver and Gold on a Semiconducting Layered Material: Tungsten Disulfide

Doering, D. L. ; Ohuchi, F. S. ; Jaegermann, W. ; Parkinson, B. A. :
Epitaxial Growth of Copper, Silver and Gold on a Semiconducting Layered Material: Tungsten Disulfide.
[Online-Edition: http://dx.doi.org/10.1557/PROC-102-41]
In: MRS Proceedings, 102 p. 41. ISSN 1946-4274
[Artikel], (1987)

Offizielle URL: http://dx.doi.org/10.1557/PROC-102-41
Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 1987
Autor(en): Doering, D. L. ; Ohuchi, F. S. ; Jaegermann, W. ; Parkinson, B. A.
Titel: Epitaxial Growth of Copper, Silver and Gold on a Semiconducting Layered Material: Tungsten Disulfide
Sprache: Englisch
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: MRS Proceedings
Band: 102
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Material- und Geowissenschaften
Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaften
Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaften > Oberflächenforschung / Surface Science
Hinterlegungsdatum: 22 Apr 2015 09:17
Offizielle URL: http://dx.doi.org/10.1557/PROC-102-41
ID-Nummer: 10.1557/PROC-102-41
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