Roodenko, K. ; Gensch, M. ; Rappich, J. ; Hinrichs, K. ; Esser, N. ; Hunger, R. (2007)
Time-Resolved Synchrotron XPS Monitoring of Irradiation-Induced Nitrobenzene Reduction for Chemical Lithography.
In: The Journal of Physical Chemistry B, 111 (26)
doi: 10.1021/jp072440j
Artikel, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2007 |
| Autor(en): | Roodenko, K. ; Gensch, M. ; Rappich, J. ; Hinrichs, K. ; Esser, N. ; Hunger, R. |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Time-Resolved Synchrotron XPS Monitoring of Irradiation-Induced Nitrobenzene Reduction for Chemical Lithography |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 2007 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | The Journal of Physical Chemistry B |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 111 |
| (Heft-)Nummer: | 26 |
| DOI: | 10.1021/jp072440j |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung |
| Hinterlegungsdatum: | 23 Mär 2015 18:00 |
| Letzte Änderung: | 23 Mär 2015 18:00 |
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