Fritsche, R. ; Jaeckel, B. ; Klein, Andreas ; Jaegermann, W. (2004)
High-resolution photoemission study of the Si(111)/Au interface and its modification by GaSe van der Waals termination layer.
In: Applied Surface Science, 234 (1-4)
doi: 10.1016/j.apsusc.2004.05.038
Artikel, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2004 |
| Autor(en): | Fritsche, R. ; Jaeckel, B. ; Klein, Andreas ; Jaegermann, W. |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | High-resolution photoemission study of the Si(111)/Au interface and its modification by GaSe van der Waals termination layer |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | Juli 2004 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Applied Surface Science |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 234 |
| (Heft-)Nummer: | 1-4 |
| DOI: | 10.1016/j.apsusc.2004.05.038 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung |
| Hinterlegungsdatum: | 21 Mär 2015 11:22 |
| Letzte Änderung: | 21 Mär 2015 11:22 |
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