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Thin Film Intercalation Compounds: UHV Deposition and Changes of Electronic Structure

Jaegermann, W. ; Tonti, D. ; Thißen, A. ; Ensling, D. ; Wu, Q.-H. ; Fernandez-Madrigal, F. ; Pettenkofer, C.
Hrsg.: Zaghib, K. ; Julien, C. M. ; Prakash, J. (2003)
Thin Film Intercalation Compounds: UHV Deposition and Changes of Electronic Structure.
In: New Trends in Intercalation Compounds for Energy Storage and Conversion: Proceedings of the International Symposium
Buchkapitel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Buchkapitel
Erschienen: 2003
Herausgeber: Zaghib, K. ; Julien, C. M. ; Prakash, J.
Autor(en): Jaegermann, W. ; Tonti, D. ; Thißen, A. ; Ensling, D. ; Wu, Q.-H. ; Fernandez-Madrigal, F. ; Pettenkofer, C.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Thin Film Intercalation Compounds: UHV Deposition and Changes of Electronic Structure
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 12 März 2003
Buchtitel: New Trends in Intercalation Compounds for Energy Storage and Conversion: Proceedings of the International Symposium
Reihe: Proceeding Electrochemical Society
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung
Hinterlegungsdatum: 11 Mär 2015 23:46
Letzte Änderung: 12 Jan 2019 21:18
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