Jatta, Sandro ; Haberle, Klaus ; Klein, Andreas ; Schafranek, Robert ; Koegel, Benjamin ; Meissner, Peter (2009)
Depositon of Dielectric Films with Inductively Coupled Plasma-CVD in Dependence on Pressure and Two RF-Power-Sources.
In: Plasma Processes and Polymers, 6 (S1)
doi: 10.1002/ppap.200931405
Artikel, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2009 |
| Autor(en): | Jatta, Sandro ; Haberle, Klaus ; Klein, Andreas ; Schafranek, Robert ; Koegel, Benjamin ; Meissner, Peter |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Depositon of Dielectric Films with Inductively Coupled Plasma-CVD in Dependence on Pressure and Two RF-Power-Sources |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 2009 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Plasma Processes and Polymers |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 6 |
| (Heft-)Nummer: | S1 |
| DOI: | 10.1002/ppap.200931405 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung |
| Hinterlegungsdatum: | 29 Okt 2011 08:16 |
| Letzte Änderung: | 05 Mär 2013 09:55 |
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