TU Darmstadt / ULB / TUbiblio

Prozesscharakterisierung Aufdampfanlage

Chatziandronis, Vasilios :
Prozesscharakterisierung Aufdampfanlage.
Technische Universität Darmstadt
[Haus-, Projekt- oder Studienarbeit], (2005)

Kurzbeschreibung (Abstract)

Zusammenfassung:

Das Institut für Elektromechanische Konstruktionen der TU Darmstadt besitzt eine Aufdampfanlage BAK 640 der Firma BALZERS mit einer vollautomatisierten Steuerung. Um diese Anlage benutzen zu können, sind genaue Prozesskenntnisse erforderlich.

Ziel dieser Studienarbeit ist es für die Werkstoffe Nickel, Aluminium, Kupfer und Chrom den Aufdampfprozess zu charakterisieren und zu dokumentieren. Hierfür ist es zunächst notwendig das Funktionsprinzip einer Aufdampfanlage und wichtige Zusammenhänge zu beschreiben, um anschließend definierte Versuchsreihen an der Aufdampfanlage durchführen zu können. Die Schichtdickenmessung erfolgt beispielsweise mittels Schwingquarzen, die sich in der Nähe der zu beschichtenden Substrate befinden. Da die Messung demnach nicht direkt auf den Substraten erfolgt, gibt es eine Abweichung zwischen gewünschter und tatsächlicher Schichtdicke, die über den sog. Tooling-Faktor an der Anlage eingestellt werden kann. Dieser Parameter wird in der Arbeit bestimmt, so wie auch die Homogenität der aufgedampften Schichten. Die Schichten werden mit einem Oberflächenprofiler vermessen. Weiter wird die maximale Quarzbelegung ermittelt, d.h. es wird die Schichtdicke bestimmt, die ein Quarz maximal noch messen kann. Nach genauer Prozesscharakterisierung haben sich die Parameter Substrattemperatur, Aufdampfrate und Schichtdicke als wichtigste Einflussfaktoren auf die Schichtqualität herauskristallisiert. Die untersuchten Parameterwerte sind in Tabelle 1 dargestellt.

Substrattemperatur[°C] Aufdampfrate[nm/s] Schichtdicke[nm]

200.................................0,3.........................100

250.................................0,4.........................300

300.................................0,5.........................500

Es sind zwar noch höhere Aufdampfraten als 0,5nm/s erreichbar, jedoch kommt es durch die zu hohe Leistung zu Spritzen im Aufdampftiegel was zu einer inhomogenen Schmelze führt. Die maximale Substrattemperatur liegt bei ca. 330°C. Größere Schichtdicken als 500nm werden nicht untersucht, da sich bei einer Rate von 0,3nm/s die Beschichtungszeit auf über 20 Minuten verlängert.

Diese Parameterwerte werden mit einem D-optimalen Versuchsplan bezüglich der Rauhigkeiten der aufgedampften Schichten untersucht und statistisch ausgewertet, wobei hier auch die Abhängigkeiten der Parameter untereinander deutlich werden. Die Programmierung und Auswertung erfolgt mit MATLAB.

Neben der Rauhigkeit und der Schichtdicke wird die Schichtqualität noch bezüglich ihrer Haftfestigkeit mittels dem Klebestreifentest ermittelt.

Typ des Eintrags: Haus-, Projekt- oder Studienarbeit
Erschienen: 2005
Autor(en): Chatziandronis, Vasilios
Titel: Prozesscharakterisierung Aufdampfanlage
Sprache: Deutsch
Kurzbeschreibung (Abstract):

Zusammenfassung:

Das Institut für Elektromechanische Konstruktionen der TU Darmstadt besitzt eine Aufdampfanlage BAK 640 der Firma BALZERS mit einer vollautomatisierten Steuerung. Um diese Anlage benutzen zu können, sind genaue Prozesskenntnisse erforderlich.

Ziel dieser Studienarbeit ist es für die Werkstoffe Nickel, Aluminium, Kupfer und Chrom den Aufdampfprozess zu charakterisieren und zu dokumentieren. Hierfür ist es zunächst notwendig das Funktionsprinzip einer Aufdampfanlage und wichtige Zusammenhänge zu beschreiben, um anschließend definierte Versuchsreihen an der Aufdampfanlage durchführen zu können. Die Schichtdickenmessung erfolgt beispielsweise mittels Schwingquarzen, die sich in der Nähe der zu beschichtenden Substrate befinden. Da die Messung demnach nicht direkt auf den Substraten erfolgt, gibt es eine Abweichung zwischen gewünschter und tatsächlicher Schichtdicke, die über den sog. Tooling-Faktor an der Anlage eingestellt werden kann. Dieser Parameter wird in der Arbeit bestimmt, so wie auch die Homogenität der aufgedampften Schichten. Die Schichten werden mit einem Oberflächenprofiler vermessen. Weiter wird die maximale Quarzbelegung ermittelt, d.h. es wird die Schichtdicke bestimmt, die ein Quarz maximal noch messen kann. Nach genauer Prozesscharakterisierung haben sich die Parameter Substrattemperatur, Aufdampfrate und Schichtdicke als wichtigste Einflussfaktoren auf die Schichtqualität herauskristallisiert. Die untersuchten Parameterwerte sind in Tabelle 1 dargestellt.

Substrattemperatur[°C] Aufdampfrate[nm/s] Schichtdicke[nm]

200.................................0,3.........................100

250.................................0,4.........................300

300.................................0,5.........................500

Es sind zwar noch höhere Aufdampfraten als 0,5nm/s erreichbar, jedoch kommt es durch die zu hohe Leistung zu Spritzen im Aufdampftiegel was zu einer inhomogenen Schmelze führt. Die maximale Substrattemperatur liegt bei ca. 330°C. Größere Schichtdicken als 500nm werden nicht untersucht, da sich bei einer Rate von 0,3nm/s die Beschichtungszeit auf über 20 Minuten verlängert.

Diese Parameterwerte werden mit einem D-optimalen Versuchsplan bezüglich der Rauhigkeiten der aufgedampften Schichten untersucht und statistisch ausgewertet, wobei hier auch die Abhängigkeiten der Parameter untereinander deutlich werden. Die Programmierung und Auswertung erfolgt mit MATLAB.

Neben der Rauhigkeit und der Schichtdicke wird die Schichtqualität noch bezüglich ihrer Haftfestigkeit mittels dem Klebestreifentest ermittelt.

Freie Schlagworte: Elektromechanische Konstruktionen, Mikro- und Feinwerktechnik, Aufdampfanlage, Dünnschichttechnologie, Prozessparameter, Schichtqualität, Versuchsplanung statistisch
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Elektromechanische Konstruktionen
Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Elektromechanische Konstruktionen > Mikrotechnik und Elektromechanische Systeme
Hinterlegungsdatum: 06 Sep 2011 15:42
Zusätzliche Informationen:

EMK-spezifische Daten:

Lagerort Dokument: Archiv EMK, Kontakt über Sekretariate,

Bibliotheks-Sigel: 17/24 EMKS 1571

Art der Arbeit: Studienarbeit

Beginn Datum: 18-10-2004

Ende Datum: 28-02-2005

Querverweis: keiner

Studiengang: Wirtschaftsingenieur Elektrotechnik und Informationstechnik (WI-ETiT)

Vertiefungsrichtung: Mikro- und Feinwerktechnik (MFT)

Abschluss: Diplom (WiET)

ID-Nummer: 17/24 EMKS 1571
Gutachter / Prüfer: Eicher, Dipl.-Ing. Dirk ; Schlaak, Prof. Dr.- Helmut Friedrich
Verwandte URLs:
Export:

Optionen (nur für Redakteure)

Eintrag anzeigen Eintrag anzeigen