Schäffer, C. (1996)
Growth of epitaxial CoSi2 films on strained Si1-xGex/Si(001) heterostructures.
In: Journal of crystal growth. 165 (1996), S. 61-69
Artikel, Bibliographie
Typ des Eintrags: | Artikel |
---|---|
Erschienen: | 1996 |
Autor(en): | Schäffer, C. |
Art des Eintrags: | Bibliographie |
Titel: | Growth of epitaxial CoSi2 films on strained Si1-xGex/Si(001) heterostructures |
Sprache: | Englisch |
Publikationsjahr: | 1996 |
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Journal of crystal growth. 165 (1996), S. 61-69 |
Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Fachbereich Materialwissenschaft (1999 aufgegangen in 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften) |
Hinterlegungsdatum: | 19 Nov 2008 16:00 |
Letzte Änderung: | 20 Feb 2020 13:31 |
PPN: | |
Export: | |
Suche nach Titel in: | TUfind oder in Google |
Frage zum Eintrag |
Optionen (nur für Redakteure)
Redaktionelle Details anzeigen |