Staab, Matthias ; Greiner, P. F. ; Schlosser, Michael ; Schlaak, Helmut F. (2011)
Applications of Novel High-Aspect-Ratio Ultrathick UV Photoresist for Microelectroplating.
In: Microelectromechanical Systems, Journal of (JMEMS), (99)
Artikel, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2011 |
| Autor(en): | Staab, Matthias ; Greiner, P. F. ; Schlosser, Michael ; Schlaak, Helmut F. |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Applications of Novel High-Aspect-Ratio Ultrathick UV Photoresist for Microelectroplating |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 12 Juli 2011 |
| Verlag: | IEEE |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Microelectromechanical Systems, Journal of (JMEMS) |
| (Heft-)Nummer: | 99 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Mikrotechnik und Elektromechanische Systeme 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Elektromechanische Konstruktionen (aufgelöst 18.12.2018) 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik |
| Hinterlegungsdatum: | 13 Jul 2011 14:34 |
| Letzte Änderung: | 19 Apr 2016 08:35 |
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