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Electrochemical deposition of Pd, Ti, and Ge for applications in GaAs technology

Schuessler, M. ; Statzner, T. ; Lin, C. I. ; Krozer, V. ; Horn, J. ; Hartnagel, Hans L. (1996)
Electrochemical deposition of Pd, Ti, and Ge for applications in GaAs technology.
In: Journal of The Electrochemical Society, 143 (4)
doi: 10.1149/1.1836604
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 1996
Autor(en): Schuessler, M. ; Statzner, T. ; Lin, C. I. ; Krozer, V. ; Horn, J. ; Hartnagel, Hans L.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Electrochemical deposition of Pd, Ti, and Ge for applications in GaAs technology
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 1996
Ort: Pennington, NJ
Verlag: Electrochemical Society
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Journal of The Electrochemical Society
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 143
(Heft-)Nummer: 4
DOI: 10.1149/1.1836604
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Mikrowellenelektronik
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 15:59
Letzte Änderung: 18 Nov 2024 09:55
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