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Growth of epitaxial Pr2O3 layers on Si(1 1 1)

Jeutter, N. M. ; Hennemeyer, M. ; Stark, R. ; Stierle, A. ; Moritz, W. (2006)
Growth of epitaxial Pr2O3 layers on Si(1 1 1).
In: Materials Science in Semiconductor Processing, 9 (6)
doi: 10.1016/j.mssp.2006.10.045
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2006
Autor(en): Jeutter, N. M. ; Hennemeyer, M. ; Stark, R. ; Stierle, A. ; Moritz, W.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Growth of epitaxial Pr2O3 layers on Si(1 1 1)
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 2006
Verlag: Elsevier
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Materials Science in Semiconductor Processing
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 9
(Heft-)Nummer: 6
DOI: 10.1016/j.mssp.2006.10.045
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Zentrale Einrichtungen
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Hinterlegungsdatum: 08 Jun 2010 08:06
Letzte Änderung: 23 Apr 2020 14:32
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