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Characterisation of SiO2 deposition by low-temperature plasma and photo CVD using low-frequency noise measurements

Riemenschneider, Rolf ; Gottwald, P. ; Hartnagel, Hans L.
Hrsg.: Bareikis, V. (1995)
Characterisation of SiO2 deposition by low-temperature plasma and photo CVD using low-frequency noise measurements.
13th International Conference on Noise in Physical Systems and 1/f Fluctuations (ICNF'95). Palanga, Lithuania (29.05.1995-03.06.1995)
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie

Typ des Eintrags: Konferenzveröffentlichung
Erschienen: 1995
Herausgeber: Bareikis, V.
Autor(en): Riemenschneider, Rolf ; Gottwald, P. ; Hartnagel, Hans L.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Characterisation of SiO2 deposition by low-temperature plasma and photo CVD using low-frequency noise measurements
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 1995
Ort: Singapore
Verlag: World Scientific
Buchtitel: Noise in physical systems and 1/f fluctuations : proceedings of the 13th International Conference, Palanga, Lithuania, 29 May-3 June 1995
Veranstaltungstitel: 13th International Conference on Noise in Physical Systems and 1/f Fluctuations (ICNF'95)
Veranstaltungsort: Palanga, Lithuania
Veranstaltungsdatum: 29.05.1995-03.06.1995
Zugehörige Links:
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Mikrowellenelektronik
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 15:58
Letzte Änderung: 02 Feb 2024 13:36
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