Typ des Eintrags: |
Konferenzveröffentlichung
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Erschienen: |
1995 |
Herausgeber: |
Bareikis, V. |
Autor(en): |
Riemenschneider, Rolf ; Gottwald, P. ; Hartnagel, Hans L. |
Art des Eintrags: |
Bibliographie |
Titel: |
Characterisation of SiO2 deposition by low-temperature plasma and photo CVD using low-frequency noise measurements |
Sprache: |
Englisch |
Publikationsjahr: |
1995 |
Ort: |
Singapore |
Verlag: |
World Scientific |
Buchtitel: |
Noise in physical systems and 1/f fluctuations : proceedings of the 13th International Conference, Palanga, Lithuania, 29 May-3 June 1995 |
Veranstaltungstitel: |
13th International Conference on Noise in Physical Systems and 1/f Fluctuations (ICNF'95) |
Veranstaltungsort: |
Palanga, Lithuania |
Veranstaltungsdatum: |
29.05.1995-03.06.1995 |
Zugehörige Links: |
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Fachbereich(e)/-gebiet(e): |
18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Mikrowellenelektronik |
Hinterlegungsdatum: |
19 Nov 2008 15:58 |
Letzte Änderung: |
02 Feb 2024 13:36 |
PPN: |
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Export: |
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